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[期刊论文] 作者：祖延兵,,
来源：电化学 年份：2017
本文介绍电化学方法在免疫检测及核酸分析中的应用.鉴于有关方面的文献综述已有多篇,这里着重于已经商品化和临床应用的电化学分析技术.希望从这些成功地应用于体外诊断的方...
[期刊论文] 作者：祖延兵,谢雷,
来源：物理化学学报 年份：1997
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[期刊论文] 作者：祖延兵,谢雷,
来源：科学通报 年份：1997
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方法相继问世.其中,扫描电化学显微镜(SECM)用...
[期刊论文] 作者：祖延兵,查全性,
来源：电化学 年份：1997
Ｎａｆｉｏｎ膜在电化学体系中的应用越来越广泛，而其表面亲水性往往直接影响着使用性能。本文介绍一种适宜于表征Ｎａｆｉｏｎ膜表面亲水性的接触角测量方法，即束缚气泡法，并讨论了该膜与水溶液接触角的......
[期刊论文] 作者：祖延兵,董庆华,
来源：武汉大学学报：自然科学版 年份：1995
利用光电化学方法和Ｘ射线衍射分析方法，研究了锂－氧化铜电池阴极还原反应，发现采用不同电流密度放电，该电池阴极过程有较大差别：放电电流密度较小时，电化学嵌入反应是主要的阴极过程......
[期刊论文] 作者：祖延兵,董庆华,
来源：高等学校化学学报 年份：1993
采用光电化学方法现场研究了锂-氧化铜电池的嵌入反应,氧化铜电极光电流的变化直观地反映了该电化学嵌入过程.发现锂离子嵌入氧化铜电极的反应始于2.5V(vs.Li/Li~+),锂以施主...
[期刊论文] 作者：祖延兵,孙立宁,
来源：电化学 年份：1997
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义，而硅是其中极为重要并占统制地位的材料，近年来，扫描电化学显微镜用于表面加工的研究颇受注目，然而，ＳＥＣＭ刻蚀分辨率......
[期刊论文] 作者：祖延兵,颜佳伟,
来源：材料保护 年份：1997
研究了非离子型金属表面活性剂在汞电极表面吸附行为及对若干典型电还原反应的影响，并与相应的吸氢链表面活性剂作了比较。结果表明，在零电荷电位附近，两类表面活性剂均以憎水吸......
[期刊论文] 作者：祖延兵,查全性,
来源：应用化学 年份：1995
在Ｎａｆｉｏｎ膜表层引入全氟表面活性剂可改善膜表面的亲水性，其中全氟磺酸表面活性剂ＦＣ－９９效果好，经后者处理的Ｎａｆｉｏｎ膜几乎不溶胀，而能使水溶液在膜上的接触角显著减小，并改善“气泡效应（零间距效应）”......
[会议论文] 作者：陈作锋,祖延兵,
来源：第十届全国有机电化学与工业学术会议 年份：2006
生物体内含巯基的氨基酸,如半胱氨酸(CySH)及同型半胱氨酸(HCy)等,在生物体的新陈代谢过程中具有十分重要的生理意义.如人体中HCy的含量增高是动脉硬化和冠心病的一个独立危...
[会议论文] 作者：祖延兵,孙立宁,
来源：第九届全国电化学会议暨全国锂离子蓄电池研讨会 年份：1997
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[期刊论文] 作者：祖延兵,颜佳伟,
来源：材料保护 年份：1997
研究了非离子型全氟表面活性剂在汞电极表面的吸附行为及对若干典型电还原反应的影响，并与相应的碳氢链表面活性剂作了比较。结果表明，在零电荷电位附近，两类表面活性剂均以憎水......
[期刊论文] 作者：祖延兵,董庆华,蔡乃才,
来源：武汉大学学报：自然科学版 年份：1993
本文测量了锂－氧化铜电池和锂－氧化亚铜电池阴极阻抗随电位的变化，与前文［６］中报道的阴极光电流变化作了比较，根据能带理论解释了实验现象。结果表明，锂－氧化铜电池阴极过程中，阴极电位......
[期刊论文] 作者：罗瑾,周静,祖延兵,林仲华,
来源：高等学校化学学报 年份：1998
采用光电流谱、透射光谱和扫描微探针显微镜技术对电沉积法制备的二氧化钛纳米微粒膜的光电化学性能和表面形貌进行了研究．结果表明，不同制备条件下的二氧化钛纳米微粒膜具有与......
[期刊论文] 作者：祖延兵,谢雷,罗瑾,毛秉伟,田昭武,
来源：物理化学学报 年份：1997
The etching resolution of electrochemical fabrication technique is influenced significantly by the diffusion layer of the etchant. It has been shown that a fast...
[期刊论文] 作者：罗瑾,苏连永,谢雷,周静,祖延兵,林仲华,
来源：物理化学学报 年份：1998
利用不同的制备方法制备出二氧化钛纳米微粒膜，对二氧化钛纳米微粒膜的光电化学材为和产生的机理进行了研究．结果表明；二氧化钛纳米微粒膜除了具有传统半导体的光电化学性质外，还......
[期刊论文] 作者：祖延兵, 谢雷, 田昭武, 谢兆雄, 穆纪千, 毛秉伟,,
来源：科学通报 年份：2004
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方法相继问世.其中,扫描电化学显微镜(SECM)用...
[期刊论文] 作者：祖延兵,谢雷,毛秉伟,穆纪千,谢兆雄,田昭武,孙立宁,
来源：电化学 年份：1997
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义，而硅是其中极为重要并占统制地位的材料。近年来，扫描电化学显微镜（ＳＥＣＭ）用于表面加工的研究颇受注目。然而，ＳＥＣＭ刻蚀分......
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