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[学位论文] 作者：姬孟托,,
来源：浙江工业大学 年份：2020
平面研磨抛光作为获取光学元件、蓝宝石衬底及单晶硅衬底等高精度表面的重要手段,在电子通信、计算机和激光等领域有着广泛的应用。随着硅片尺寸的增加及集成度越来越高,这些领域对硅片的平面度和全局平坦化要求也越来越高。为进一步改善硅片表面形状精度,本文......
[期刊论文] 作者：姬孟托,洪滔,文东辉,陈珍珍,蔡东海,,
来源：机电工程 年份：2016
平面研磨过程中磨粒与工件的相对运动轨迹分布对工件表面质量有重要影响。针对有理数转速比下的研磨加工过程中磨粒轨迹重复的问题,对磨粒相对工件的运动轨迹进行了研究,分析...
[期刊论文] 作者：杨杰, 洪滔, 文东辉, 陈珍珍, 张丽慧, 姬孟托,,
来源：机电工程 年份：2018
针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性。建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的...
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