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[会议论文] 作者：程秀兰,“薄膜与微细技术”国家教育部开放实验室(上海),徐东,“薄膜与微细技术”国家教育部开放实验室(上海),蔡炳初,“薄膜与微细技术”国家教育部开放实验室(上海),王莉,“薄膜与微细技术”国家教育部开放实验室(上海),陈鉴,“薄膜与微细技术”国家教育部开放实验室(上海),
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
本文采用射频磁控溅射制备TiNiCu形状记忆合金薄膜,分析了Cu含量和溅射工艺参数对薄膜相变温度和显微组织的影响.结果表明,适当提高Cu含量、升高Ar气压、提高溅射功率,均能有效地提高相变温度;同时,0.1Pa的低Ar气压溅射导致了大量的“梅花”状显微组织,这种显微......
[会议论文] 作者：程秀兰,“薄膜与微细技术”国家教育部开放实验室(上海),徐东,蔡炳初,王莉,陈鉴,
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
本文采用射频磁控溅射制备TiNiCu形状记忆合金薄膜,分析了Cu含量和溅射工艺参数对薄膜相变温度和显微组织的影响.结果表明,适当提高Cu含量、升高Ar气压、提高溅射功率,均能有...
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