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更低温度下和重复再生时NiO/SiO2催化剂上甲苯完全氧化反应
[期刊论文] 作者：Sang Wook Han,Myung-Geun Jeong, 来源：催化学报 年份：2016
采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理。将制得的这两种Ni/SiO2样品用于催...
更低温度下和重复再生时NiO/SiO_2催化剂上甲苯完全氧化反应（英文）
[期刊论文] 作者：Sang Wook Han,Myung-Geun Jeong,Il Hee Kim,Hyun Ook Seo,Young Dok Kim,, 来源：催化学报 年份：2016
采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于...
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