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[期刊论文] 作者：Mark Slezak Ramakrishnan Ayoth,
来源：集成电路应用 年份：2007
最近的两年多以来．65nm半节距（HP）光刻．传统上叫做45nm节点．在最先进的晶圆厂内十分活跃。其间出现了多种光刻技术选择方案．然而大多数逻辑和存储器公司最终决定．在最具挑战性的关键......
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