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[期刊论文] 作者：K.Kamei,邓先灿,,
来源：半导体情报 年份：2004
采用电子束曝光技术刻制栅电极及减小源栅寄生电阻的方法,发展了0.25μm 栅低噪声 GaAsFET。18GHz 下,噪声系数为1.9dB,相应增益为7dB(漏电流为10mA 时),最大有用增益为11dB(...
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