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[学位论文] 作者：韦嘉辉,,
来源：江苏大学 年份：2020
单晶氧化镓（β-Ga2O3）作为新一代半导体材料,其具有超宽禁带、高击穿场强、导电性能优异和深紫外波段透射率高等优良物化特性,在高频、高效率、大功率微电子器件与高电压设备领......
[期刊论文] 作者：周海, 宋放, 韦嘉辉, 李永康,,
来源：硅酸盐学报 年份：2004
为了分析易解理的脆性氧化镓晶体的超精密加工过程中材料去除机理,采用金刚石压头,在G200型纳米压痕仪,分别对氧化镓晶体的(100)和(010) 2个主要晶面的纳米力学性能进行了试...
[期刊论文] 作者：周海, 宋放, 韦嘉辉, 李永康,
来源：硅酸盐学报 年份：2019
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[期刊论文] 作者：韦嘉辉, 周海, 高晗, 梁志强,,
来源：微纳电子技术 年份：2004
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技...
[期刊论文] 作者：宋放, 周海, 韦嘉辉, 吴宇航, 孙亮,,
来源：机械工程与自动化 年份：2019
在研磨氧化镓晶片时,由于铜质研磨盘的导热系数和热膨胀率较大,因此研磨盘各个部位的热变形量也会因为温度的不同而不同。通常在加工前需要对研磨盘加工时的变形量进行预测,...
[期刊论文] 作者：龚凯,周海,韦嘉辉,宋放,王晨宇,
来源：工具技术 年份：2018
对比分析了不同抛光垫的表面形貌、表面粗糙度、硬度以及涵养量对氧化镓晶片化学机械抛光过程中表面质量和材料去除率的影响规律,结果表明：在同一抛光参数条件下,Suba600无纺...
[期刊论文] 作者：龚凯,周海,黄传锦,韦嘉辉,王晨宇,
来源：现代制造工程 年份：2019
为抑制氧化镓晶片在研磨过程中的解理现象,通过NAKAMURA的方法,重新设计、研制一种黏弹性固着磨料新型研磨垫对氧化镓晶片进行研磨实验研究,对比分析其与传统铸铁研磨盘对单...
[期刊论文] 作者：周海,徐亚萌,韦嘉辉,沈军州,冯晓雯,
来源：硅酸盐学报 年份：2021
使用Berkovich压头,采用恒载荷法对氧化镓的(100)及(010)晶面进行纳米压痕试验,通过数据拟合获得氧化镓晶体的蠕变应力指数.单晶氧化镓(100)晶面的蠕变应力指数范围在15.5～27....
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