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[期刊论文] 作者：窦连水,刘晓伟,,
来源：电子工业专用设备 年份：2011
随着锗太阳能光伏产业的发展，锗抛光片得到了广泛的应用。机械强度对锗衬底抛光片的质量和成品率有着重要的影响，采用化学腐蚀工艺，通过酸碱腐蚀实验的开展以及腐蚀温度、腐蚀液......
[期刊论文] 作者：吕菲,赵权,刘春香,窦连水,,
来源：电子工业专用设备 年份：2010
因磨削工艺不同导致Ge单晶片表面粗糙度出现很大差异，并最终影响抛光速率、抛光片的表面质量及抛光片时间依赖性雾的形成。粗糙度大的磨削片，初始抛光速率快．但抛光片达到镜面所......
[期刊论文] 作者：秦伟亮,常耀辉,戚红英,窦连水,
来源：电子工业专用设备 年份：2018
分析了硅晶片电阻率测试的重要性并介绍了国内外常用的电阻率测试方法，并对使用最广泛的工艺检测手段 - 四探针技术的原理、测准条件及发展状况进行了详细的介绍。...
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