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[期刊论文] 作者：程建瑞,,
来源：电子工业专用设备 年份：2014
在作为半导体工业发展革新的试金石数十年之后,当今的经济条件可能会使摩尔定律失效。这种可能的趋势,对芯片制造商和其他的相关行业从业者的影响是戏剧性的。1965年,Int...
[期刊论文] 作者：程建瑞,,
来源：电子工业专用设备 年份：2011
1集成电路技术路线图1．1IC技术的历史与未来...
[期刊论文] 作者：程建瑞,
来源：电子工业专用设备 年份：1995
本文在计算机控制理论的基础上，从接口的角度对精度要求高、过程动作及其复杂的直接分步光刻机的计算机控制做了深入探讨。提出了构造系统控制总线的方法，就总线对各分系统控制......
[期刊论文] 作者：程建瑞,
来源：电子工业专用设备 年份：1994
基于ＰＲＯＭ技术的ＰＬＤ器件代表了未来硬件技术的发展方向。对比于传统的ＴＴＬ标准逻辑，ＰＩ．Ｄ器件具有易设计、功能强、可靠性高、成本低等优点。本文根据其原理论述了它的各个优点，并给出了设计方法......
[期刊论文] 作者：程建瑞,
来源：电子工业专用设备 年份：1997
主要介绍了国外用于生产型亚半微米分步投影曝光机的几种自动对准技术。通过分析对比，提出了相位光栅的自动地准技术是我所研制下一代分步曝光机最具吸收力的方案。...
[期刊论文] 作者：程建瑞,,
来源：电子工业专用设备 年份：2015
光刻机的分辨率是基于瑞利分辨率公式R=k1λ/NA,提高分辨率的途径是缩短曝光光源的波长和提高投影物镜的数值孔径。目前主流市场使用的是193 nm浸没光刻机多曝光技术,已经实...
[期刊论文] 作者：程建瑞,,
来源：电子工业专用设备 年份：2015
光刻机的分辨率是基于瑞利分辨率公式R=k1λ/NA,提高分辨率的途径是缩短曝光光源的波长和提高投影物镜的数值孔径.目前主流市场使用的是193 nm 浸没光刻机多曝光技术,已经实...
[期刊论文] 作者：,
来源：电子工业专用设备 年份：2009
在集成电路IC装备领域，先进的光刻设备和技术长期被外资厂商占据。在国家振兴制造装备业规划的宏观形式下，上海微高通过自身努力，以创新推动本土光刻设备的发展。当前上海微高承......
[期刊论文] 作者：程建瑞(编译),,
来源：电子工业专用设备 年份：2014
在作为半导体工业发展革新的试金石数十年之后，当今的经济条件可能会使摩尔定律失效。这种可能的趋势，对芯片制造商和其他的相关行业从业者的影响是戏剧性的。 1965年，Intel......
[期刊论文] 作者：杨兴平,程建瑞,,
来源：电子工业专用设备 年份：2006
通过对光栅对准原理、结构的分析，以及在光刻设备中的实际应用，探讨微弱光电信号探测对准技术。...
[期刊论文] 作者：程建瑞,吴成功,,
来源：电子工业专用设备 年份：2014
如何实现PAS扫描机与NSR步进机混合匹配,从匹配的可行性、匹配步骤、匹配精度控制、匹配校准问题进行分析,最终实现PAS5500/700与NSR2205i12之间的匹配和混合光刻技术,包括:(...
[期刊论文] 作者：程建瑞,李正贤,,
来源：电子工业专用设备 年份：2009
介绍了国内二手半导体设备的市场应用、特点．并着重就国内二手设备的翻新调试和使用等方面的问题做了介绍分析并给出了一点建议，对行业有一定的指导作用。...
[期刊论文] 作者：程建瑞,王作义,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
通过对国内半导体产业发展形势和国内半导体专用设备行业现状的分析,阐述了建立一支掌握着先进技术,又能提供优质服务、反应快速的技术支持队伍的重要性....
[会议论文] 作者：黄惠杰,张强,程建瑞,贺荣明,
来源：2003中国电子制造技术论坛会 年份：2003
本文分析了光刻机中采用的几种投影物镜的结构型式,比较了各自的优缺点,指出目前光刻机中采用全折射投影物镜作为主流结构型式的原因....
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