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[期刊论文] 作者：张立祥,王海涛,王尤海,夏庆峰,,
来源：液晶与显示 年份：2016
本文对在等离子体刻蚀工艺中,功率、压强、气体比例重要参数对a-Si刻蚀均一性的影响进行了研究。采用PECVD成膜、RIE等离子体刻蚀,并通过台阶仪和光谱膜厚测定仪对膜厚进行表...
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