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[学位论文] 作者：沈诗欢,,
来源：北京理工大学 年份：2017
极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻是实现11nm及以下节点光刻技术中最具潜力的光刻技术。EUV光刻投影物镜系统使用反射式光学元件,且必须设计多层膜来获得高反射率。然而,...
[期刊论文] 作者：沈诗欢,李艳秋,姜家华,刘岩,刘克,刘丽辉,,
来源：光学学报 年份：2017
10nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展,物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大,传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜...
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