【摘 要】
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研究ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀金属Ｈｆ的源材料形成ＨｆＯ２薄膜。采用这三种工艺制备了ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜，在中
【机 构】
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成都精密光学工程研究中心,中国科学院上海光机所
【基金项目】
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国家863 惯性约束聚变领域资助课题
论文部分内容阅读
研究ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀金属Ｈｆ的源材料形成ＨｆＯ２薄膜。采用这三种工艺制备了ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜，在中心波长１０６４ｎｍ处，反射率Ｒ≥９９．５％，其中反应蒸镀ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜损伤阈值最高，可达６０Ｊ／ｃｍ＾２（１０６４ｎｍ，５ｎｓ）。
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