硅掺杂对InAs/GaSb II类超晶格磁输运的影响

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针对红外探测器制作特性的要求,改善制作材料的物理性能,为此研究了经硅掺杂的InAs/GaSb二类超晶格薄膜(由MOCVD生长)在12~300 K温度范围下的磁输运性质。用范德堡法进行电学测量,应用霍尔效应原理,计算各温度下样品的迁移率和载流子浓度。在低温下,观察到了薄膜的弱局域效应(weak localization, WL),且发现硅的掺杂使其有更好的WL稳定性。并用三维Kawabata模型来拟合弱局域效应,得到相位相干长度的值,解释了掺杂n型硅对于InAs/GaSb二类超晶格量子局域化的有利性,从而为红外探测器件的开发提供了有价值的参考。
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