硼掺杂金刚石薄膜电极电化学特性的研究

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lnln0923
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本文用未经任何表面处理的硼掺杂金刚石薄膜为电极材料,采用循环伏安法和计时电流法检测含K3Fe(CN)6的KCl和HCl-KCl溶液的响应电流,对电极的基本特性,如响应时间,稳定性等进行了研究;同时也对溶液pH值变化与因而造成的响应电流变化进行了研究。从与玻碳电极比较的角度出发,分别在含汞的酸性KCl-HNO3和中性KCl体系中,在一定电位下预富集铅,而后用阳极扫描法检测Pb-Hg的溶出峰电流,对金刚石膜电极的分辨率,重现性,稳定性等作了进一步的探讨;并对实际水样进行了测试。大量的实验结果表明,这种低电阻率的CVD金刚石膜具有很多优越的电化学特性,有望在电化学中作为电极材料而被使用。 In this paper, boron-doped diamond films without any surface treatment were used as electrode materials. The response currents of KCl and HCl-KCl solutions containing K3Fe (CN) 6 were measured by cyclic voltammetry and chronoamperometry. Such as response time, stability and so on were studied. At the same time, the change of solution pH and the resulting response current were also studied. From the point of view of comparison with glassy carbon electrode, lead was pre-enriched at a certain potential in mercury-containing acidic KCl-HNO3 and neutral KCl systems, respectively, and the peak current of Pb-Hg was detected by anodic scanning Diamond film electrode resolution, reproducibility, stability and so made further discussion; and the actual water samples were tested. A large number of experimental results show that this low resistivity CVD diamond film has many excellent electrochemical properties and is expected to be used as an electrode material in electrochemistry.
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