SU-8光刻胶加工工艺及应力梯度研究

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文章采用牺牲层刻蚀技术加工SU-8胶MEMS微结构,BP212正性光刻胶作为牺牲层,SU-8胶作为结构层。制造出的SU-8胶微结构完整,表面无裂纹,牺牲层释放干净。通过测量释放后的SU-8胶悬臂梁曲率半径,计算其应力梯度,研究了后烘温度对SU-8胶薄膜应力梯度的影响。
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