论文部分内容阅读
采用紫外线光刻技术与电化学沉积相结合的方法，成功制备了不同图案的铜纳米线阵列：一种是圆形图案；另一种是QDU图案。首先利用紫外线光刻技术在多孔阳极氧化铝模板（AA0）生成预设图案，以此作为“二次模板”；再利用电化学方法将铜纳米线沉积到“二次模板”的开孔中。扫描电镜（SEM）测试结果表明，大面积、高规整的铜纳米线图案阵列各自独立地立在基底上，同时，用电子能谱（EDS）分析了铜纳米线的化学成分。透射电镜（TEM）也探测到了铜纳米线的微结构。