【摘 要】
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The aim of this study is to develop a novel technique for improving the intraoperative margin assessment of glioblastoma by examining the total extrinsic extracellular matrix (ECM) with eosin staining using fluorescence lifetime imaging microscopy (FLIM)
【机 构】
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KeyLaboratoryofOptoelectronicDevicesandSystemsofMinistryofEducationandGuangdongProvince,CollegeofOpt
【出 处】
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ChineseOpticsLetters
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The aim of this study is to develop a novel technique for improving the intraoperative margin assessment of glioblastoma by examining the total extrinsic extracellular matrix (ECM) with eosin staining using fluorescence lifetime imaging microscopy (FLIM) and scale-invariant feature transform (SIFT) descriptor analysis. Pseudo-color FLIM images obviously exhibit ECM distributions, changes in sequential sections, and different regions of interest. Meanwhile, SIFT descriptors are first utilized for the discrimination of glioblastoma margins by matching similar ECM regions and extracting keypoint orientations from FLIM images obtained from a series of continuous slices. The findings indicate that FLIM imaging with SIFT analysis of the total ECM is a promising method for improving intraoperative diagnosis of frozen and surgically excised brain specimen sections.
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The features of an attosecond extreme ultraviolet (XUV) field are encoded in the attosecond XUV spectrogram. We investigate the effect of the temporal structures of attosecond XUV fields on the attosecond streaking spectrogram. Factors such as the number
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基于有限元方法，以三点夹持为例，对压电薄膜变形镜(PFDM)的工作特性进行了仿真分析，发现变形镜与镜框之间因夹持带来的接触应力会导致镜面变形与电压之间呈现非线性变化。针对这一问题，提出了两种改进方式，仿真结果表明，两种改进方式均能够有效改善变形镜的非线性响应问题。
设计并制作了条宽100μm,腔长1 mm的有源区无铝高功率SCH-SQW激光器,室温连续输出功率达1 W,阈值电流密度为460A/cm2,外微分量子效率为0.68 W/A,激射波长为849 nm(腔面未镀膜).
通过数值仿真研究了高斯光束在贝塞尔晶格中的传输特性，贝塞尔晶格是在光折变晶体中通过光诱导产生的。在有晶格和无晶格的情况下，高斯光束的传输特性有很大差别。高斯光束在均匀介质中传输时会呈现出线性衍射和自聚焦现象，当晶体中存在晶格时，光束可以克服光在均匀介质中的衍射和自聚焦效应，在不同的初始输入条件下，高斯光束在传输的过程中会演变成一个环形孤子或者圆形孤子。
集成成像技术重建分辨率的表征方法对集成成像系统性能的优化及评价具有重要的意义。根据几何光学原理,考虑数字记录过程中的像素离散化影响,结合元素图像阵列中的同名像素相关性,对同名像素在像空间投影叠加实现三维信息重建的过程进行了深入分析,定义了集成成像技术像空间的横向和纵向分辨率,并研究了其沿轴分布特性。理论分析和实验结果均表明,集成成像技术的横向和纵向分辨率沿轴向呈现不均匀的分布特性。
这次会议于1976年1月12日至14日在美国犹他州盐湖城召幵，为期3天，参加者约200名，由美国光学学会和电气与电子工程师协会共同举办。会议两年举行一次，这是第三次。发表篇数，包括8篇截稿论文，共77篇；如按国别分类，则举办国美国56篇(其中贝耳电话研究所16篇)，占压倒多数，日本6篇，西德6篇，法国3篇，英国3篇，其他4篇。所及内容多半是使用GaAs或GaAs系的材料。
早在文献[1]中研究碱金属蒸气的高压放电时就已指出，在适当选择蒸气压力时，钾中的弧光放电可以成为钕激光器的有效泵浦源，这是因为钾的共振双线（λ=766.5和769.8毫微米）与玻璃和石榴石中的钕吸收带匹配得相当好。其它的碱金属用来泵浦钕激活元件也感到兴趣，这是因为用压力将它们共振线（Na: 589.0，589.6毫微米，Rb：780.0, 794.8毫微米，Cs： 852.1，894.3毫微米)加宽后，和钾一样落在激活介质的吸收带中。
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