Rh/SiO_2催化剂上甲烷部分氧化制合成气的反应机理

来源 :催化学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xumeg

【摘要】

：

采用原位Raman光谱技术,在原料气中的O2未完全耗尽的条件下,对CH4部分氧化制合成气反应的Rh/SiO2催化剂床层前部贵金属物种的化学态以及由CH4解离所生成的碳物种进行了表征.

【作者】

：

温在恭李虎翁维正夏文生黄传敬万惠霖

【机构】

：

厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室

【出处】

：

催化学报

【发表日期】

：

2012年7期

【关键词】

：

铑甲烷部分氧化合成气脉冲反应原位拉曼光谱同位素示踪 rhodium partial oxidation of methane synthesis ga

【基金项目】

：

国家重点基础研究发展计划（973计划,2010CB732303）, 国家自然科学基金（20873111,20923004,21033006）, 教育部创新团队项目（IRT1036）, 福建省重大科技专项（2009HZ0002-1）

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采用原位Raman光谱技术,在原料气中的O2未完全耗尽的条件下,对CH4部分氧化制合成气反应的Rh/SiO2催化剂床层前部贵金属物种的化学态以及由CH4解离所生成的碳物种进行了表征.在此基础上采用脉冲反应和同位素示踪技术,比较了CH4的部分氧化及其与H2O和CO2的重整等反应对催化剂床层氧化区内CO和H2生成的相对贡献,并将实验结果与Ra-man光谱表征结果进行了关联.结果表明,在600°C下将还原后的4%Rh/SiO2催化剂切入CH4：O2：Ar=2：1：45原料气,催化剂床层前部未检测到铑氧

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