电弧离子镀低温沉积TiN薄膜的显微结构与残余应力

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采用电弧离子镀技术在316L不锈钢基体上低温沉积TiN薄膜,并利用EDS、SEM、XRD和纳米压痕仪研究基体偏压和温度对薄膜的显微结构、残余应力和力学性能的影响规律。结果表明,TiN薄膜表现出高度(111)择优取向的面心立方结构。随着基体偏压和温度的增加,衍射峰强度急剧增加,同时峰变窄,晶粒尺寸从6.2 nm增大到13.8 nm。当基体温度从10℃增加到300℃时,薄膜的残余压应力从10.2 GPa急剧下降到7.7 GPa,从而导致薄膜的硬度从33.1 GPa下降到30.6 GPa,而薄膜的结合力则从9.
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