【摘 要】
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为优化电沉积镀镍工艺,通过两组正交实验,分别确定在垂直方向磁场和平行方向磁场作用下各工艺参数对镀镍层的显微硬度、晶粒尺寸和表面形貌的影响作用。分析结果发现,磁场不
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为优化电沉积镀镍工艺,通过两组正交实验,分别确定在垂直方向磁场和平行方向磁场作用下各工艺参数对镀镍层的显微硬度、晶粒尺寸和表面形貌的影响作用。分析结果发现,磁场不是决定电沉积工艺的主导影响因素,电流密度和超声功率对电沉积的影响作用较大,平行磁场相较于垂直磁场更有利于镀层晶粒的生长,最后找出最佳电沉积工艺参数为：电流密度2A/dm2、超声功率240W、平行磁场方向、磁感应强度0.6T、占空比20%,并分析形成这种结果可能的机理。
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