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目的
分析低温等离子技术在鼻内镜下脑脊液鼻漏修补术中的应用。
方法回顾性分析2016年8月至2017年9月收治的10例脑脊液鼻漏患者的临床资料。其中，自发性5例，经蝶窦垂体术后2例，鼻息肉术后1例，外伤后2例。10例均行鼻内镜下脑脊液鼻漏修补术，使用低温等离子技术处理疝出的脑组织或漏口周围软组织，并采用自体材料修补。
结果患者术后均随访6个月，恢复良好，未发生颅内并发症及再次脑脊液鼻漏。
结论低温等离子技术在鼻内镜下脑脊液鼻漏修补术中起到重要作用，具有热损伤小、恢复快、黏膜清除彻底及无出血的优势。