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a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究
a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究
来源 :现代显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zyfufen
【摘 要】
:
列举了不同的a-SiTFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺,详细分析了在五次光刻工艺中的电化学腐蚀问题的反应机理,并对各种返修工艺的优点和缺点进行了简要地说明。
【作 者】
:
林鸿涛
刘伟
【机 构】
:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林北方彩晶数码电子有限公司
【出 处】
:
现代显示
【发表日期】
:
2006年08期
【关键词】
:
a-Si TFT-LCD制造工艺
电化学腐蚀
反应机理
氧化锡铟
返修工艺
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列举了不同的a-SiTFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺,详细分析了在五次光刻工艺中的电化学腐蚀问题的反应机理,并对各种返修工艺的优点和缺点进行了简要地说明。
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