光助芬顿法降解印制电路板脱膜废液

来源 :重庆建筑大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhangsen168

【摘要】

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研究表明,采用UV/Fenton均相光催化氧化体系降解印制电路板脱膜废液效果好.在H2O2用量为1倍理论药量,Fe':H2O2(摩尔比)=1:20,光照时间为80 min,脱膜废液COD去除率可达80%

【作者】

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郭新超金奇庭王艳芳孙长顺薛峰

【机构】

：

西安建筑科技大学,总后勤部建筑工程研究所

【出处】

：

重庆建筑大学学报

【发表日期】

：

2005年5期

【关键词】

：

UV/Fenton 均相光催化脱膜废液

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研究表明,采用UV/Fenton均相光催化氧化体系降解印制电路板脱膜废液效果好.在H2O2用量为1倍理论药量,Fe':H2O2(摩尔比)=1:20,光照时间为80 min,脱膜废液COD去除率可达80%.光助芬顿体系降解脱膜废液的诸多影响因素中,重要性次序依次为H2O2投药比＞FeSO4/H2O2的比值＞光照时间.

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