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对１１６ｐｓ，功率密度为５．４×１０＾１＾２Ｗ／ｃｍ＾２的激光脉冲和硅平板靶的相互作用进行了数值模拟，得到了类锂硅离子４ｆ粒了波居数和４ｆ－３ｄ跃迁增益系数的时空变化，并与实验结果进行了比较。
类锂硅软X射线激光模拟
【摘 要】
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对１１６ｐｓ，功率密度为５．４×１０＾１＾２Ｗ／ｃｍ＾２的激光脉冲和硅平板靶的相互作用进行了数值模拟，得到了类锂硅离子４ｆ粒了波居数和４ｆ－３ｄ跃迁增益系数的时空变化，并与实验结果进行了比较。
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,吉林大学原子与分子物理研究所
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1995年1期
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