【摘 要】
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对多孔低k介质BD(Black Diamond)光片化学机械抛光(CMP)后,采用由150 mg/L FA/OⅡ型螯合剂与750 mg/L FA/OⅡ型表面活性剂组成的碱性清洗液(pH=10.4)进行清洗。探究了清洗过
【机 构】
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河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,中国电子科技集团公司第四十五研究所
【基金项目】
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国家中长期科技发展规划02科技重大专项(2016ZX02301003-004-007);国家青年自然科学基金(61704046);河北省自然科学基金(F2018202174)
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对多孔低k介质BD(Black Diamond)光片化学机械抛光(CMP)后,采用由150 mg/L FA/OⅡ型螯合剂与750 mg/L FA/OⅡ型表面活性剂组成的碱性清洗液(pH=10.4)进行清洗。探究了清洗过程中刷子间距、刷子转速,以及清洗液和去离子水刷洗时间对BD的k值和清洗效果的影响。得到较优的清洗工艺条件为:刷子间距0.5 mm,刷子转速200 r/min,清洗液刷洗时间40 s,去离子水刷洗时间75 s。在该条件下的清洗效果良好,BD表面粗糙度为0.24 nm,k值的变化率低于5%。
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