【摘 要】
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针对3英寸SiC衬底的精密抛光加工,设计了其无架行星式适应性双面抛光机构的几何模型.推导了抛光垫上任一点磨粒A 相对SiC 衬底的运动轨迹方程.利用C#和Matlab联合仿真对太阳
【机 构】
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山东大学高效洁净机械制造教育部重点实验室
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针对3英寸SiC衬底的精密抛光加工,设计了其无架行星式适应性双面抛光机构的几何模型.推导了抛光垫上任一点磨粒A 相对SiC 衬底的运动轨迹方程.利用C#和Matlab联合仿真对太阳轮、行星轮、齿圈以及抛光盘转速和运动轨迹的曲率等工艺参数进行了分析.基于ADAMS工具,进行了双面抛光的运动学仿真,得到了3英寸SiC衬底表面5点的位移、速度、加速度随时间变化的曲线.仿真结果表明,当齿圈和太阳轮转速比m =-1.25;抛光盘和太阳轮转速比n=1;磨粒分布半径（RA）适当增加时,磨粒在晶片上走过的轨迹范围增大;得
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