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电荷泵技术在高压MOS晶体管可靠性研究中的应用
电荷泵技术在高压MOS晶体管可靠性研究中的应用
来源 :电子器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiomantou_3737
【摘 要】
:
主要阐述了电荷泵技术在14VHVMOS晶体管可靠性研究中的应用。使用了一种改进的电荷泵技术分析了经过热载流子加压后的器件特性。使用这种方法,我们可以精确描述器件损伤的位置
【作 者】
:
禹玥昀
唐逸
万星拱
任铮
胡少坚
周伟
李曦
石艳玲
【机 构】
:
上海集成电路研发中心,华东师范大学
【出 处】
:
电子器件
【发表日期】
:
2009年6期
【关键词】
:
电荷泵
界面缺陷密度
高压MOS
热载流子注入
charge pumping(CP) interface trap density
high-voltage
【基金项目】
:
This work was supported by Foundation of Shanghai Science & Technology Committee Grants 075007033 and 08706200802.上海市科委启明星项目资助(07QBl4018,08706200802)
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主要阐述了电荷泵技术在14VHVMOS晶体管可靠性研究中的应用。使用了一种改进的电荷泵技术分析了经过热载流子加压后的器件特性。使用这种方法,我们可以精确描述器件损伤的位置和程度,以及可以精确评估由于HCI效应引起的界面缺陷的变化,为器件优化与工艺改进提供重要参考信息。
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