论文部分内容阅读
对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模型与实验更加接近，本文所提供的方法也适用于有减反膜的光刻工艺对准信号的分析。
投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型
【摘 要】
：
对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模型与实验更加接近，本文所提供的方法也适用于
【机 构】
：
中国科学院上海冶金所微电子分部
【出 处】
：
电子学报
【发表日期】
：
1999年7期
其他文献
结合海油平台现状,研究了通过增加烟气余热回收器,将淡水换热为热水,再以此热水为介质,换热真空制淡机中的海水,通过制淡机中的蒸发冷凝过程,最终制取淡水的工艺。
以氯甲酸乙酯和2-氯-4-氟苯酚为原料，首先制得2-氯-4-氟苯基碳酸乙酯中间体，再用混酸进行硝化。得到2-氯-4-氟-5-硝基苯基碳酸乙酯，二步反应总收率为86．58％，产品纯度为96．30％。