日本设备商FOI总投资25.7亿元率先入驻武汉

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继中芯国际之后,又一家世界半导体巨头将落户光谷。日前日本株式会社FOI和武汉东湖开发区签订协议,计划10年间投资达25.7亿元,建设FOI(武汉)半导体设备制造股份有限公司,预计年产出将达40亿元。FOI是一家具有国际先进水平的设备制造企业。此次投资使其成为世界第二家、日本第一家在中:国建厂的半导体设备制造厂商。FOI方面介绍,武汉公司争取今年注册,项目征地约“100亩,主要生产照相机、计算机芯片的设备。目前国内的客户只有中芯国际一家,大部分用于出口。
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