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介绍了光栅尺纳米测量技术的国内外研究现状，并对它们优劣进行了分析，在上述成果的基础上，得出一种以光栅栅距为测量基准，测量精度主要取决于光栅栅线的刻制精度的光栅干涉测量方法，它受光源光强和波长变化的影响很小，因此在工况条件下能够具有较好的测量精度和稳定性，符合大量程、高分辨力、动态等纳米测量技术的发展趋势，最后对此测量系统将实现样机仪器化、产业化进行了展望。