【摘 要】
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采用溶胶-凝胶法合成粒径在50~150 nm范围内的二氧化硅(S iO2)纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对S iO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚
【机 构】
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东华大学纤维材料改性国家重点实验室,东华大学分析测试中心
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采用溶胶-凝胶法合成粒径在50~150 nm范围内的二氧化硅(S iO2)纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对S iO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、13C CP/MAS NMR和29S i CP/MAS NMR等手段对修饰过的S iO2纳米粒子进行表征,以确证MPS接枝在S iO2纳米粒子上。分析修饰过的S iO2纳米粒子的29S i CP/MAS NMR和FTIR谱图,还可初步推断MPS接枝在S iO2纳米粒子表面的机理:MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物,然后通过氢键作用吸附到S iO2纳米粒子表面,最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与S iO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应。
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