【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在载玻片和硅片上制备了纳米氮化锆薄膜。结果表明,纳米氮化锆薄膜(10~29nm)呈非晶态,其光学特性在波长380~2700nm的范围内平均可见光透过率为82.86%,平均反射
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采用射频磁控溅射法在载玻片和硅片上制备了纳米氮化锆薄膜。结果表明,纳米氮化锆薄膜(10~29nm)呈非晶态,其光学特性在波长380~2700nm的范围内平均可见光透过率为82.86%,平均反射率低至10.78%。扫描隧道谱(SIS)分析表明薄膜禁带宽度Eg为2.99 eV,在可见光范围内光子多为透过,反射和吸收较弱。从薄膜的X光电子能谱图(XPS)可知,薄膜表面存在大量的ZrO2,对于纳米级的氮化锆薄膜而言,表面相ZrO2对整体光学性能的影响较大。
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