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介绍了模拟集成电路工艺的发展过程和现状,讨论了国内的BiCMOS工艺、互补双极工艺(CB)、和SOI双极工艺的最新进展.重点介绍了BiCMOS工艺的研究与开发,指出了模拟集成电路工艺的发展趋势.
高性能模拟集成电路工艺技术
【摘 要】
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介绍了模拟集成电路工艺的发展过程和现状,讨论了国内的BiCMOS工艺、互补双极工艺(CB)、和SOI双极工艺的最新进展.重点介绍了BiCMOS工艺的研究与开发,指出了模拟集成电路工艺
【机 构】
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模拟集成电路国家重点实验室,中国电子科技集团公司
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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2004年4期
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