【摘 要】
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抛光粉粒度与其抛光性能有密切关系,然而粒度相同的抛光粉,粒度分布的不同对其抛光性能也具有重要影响.为了探究粒度分布对抛光性能的影响,以粒径较大的CeO2粉为原料,使用不同球磨设备对CeO2粉进行细化,设置不同的球磨工艺参数并添加不同的助剂,获得中位粒径D50=1 μm,具有不同粒度分布的CeO2料液,添加一定量分散剂调配成固含量10％(质量分数)的抛光液.用9B双面抛光机对K9玻璃进行抛光,记录玻璃单位时间质量减少量,并利用原子力显微镜测量抛光表面粗糙度.结果 表明,设置不同的球磨工艺可以对CeO2粒径分
【机 构】
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东北大学材料科学与工程学院,辽宁沈阳110819;德米特(苏州)电子环保材料有限公司,江苏苏州215000;德米特(苏州)电子环保材料有限公司,江苏苏州215000;东北大学材料科学与工程学院,辽宁沈
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抛光粉粒度与其抛光性能有密切关系,然而粒度相同的抛光粉,粒度分布的不同对其抛光性能也具有重要影响.为了探究粒度分布对抛光性能的影响,以粒径较大的CeO2粉为原料,使用不同球磨设备对CeO2粉进行细化,设置不同的球磨工艺参数并添加不同的助剂,获得中位粒径D50=1 μm,具有不同粒度分布的CeO2料液,添加一定量分散剂调配成固含量10％(质量分数)的抛光液.用9B双面抛光机对K9玻璃进行抛光,记录玻璃单位时间质量减少量,并利用原子力显微镜测量抛光表面粗糙度.结果 表明,设置不同的球磨工艺可以对CeO2粒径分布进行调控,CeO2粒度分布较窄时,具有较高的抛光去除率MRR,粒度分布适中时,兼具抛光效率与表面质量.使用行星式搅拌球磨机,选用直径为3mm的磨珠、球料比为5∶1,抛光机转速为30 rpm,浆液流速为30 rpm、并在球磨介质中添加质量比为0.1％的聚丙烯酸钠作为助剂时,可获得最低的表面粗糙度Ra=0.849nm.
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