论文部分内容阅读
以表面平整、粗糙的玻璃为衬底，在不同衬底温度下直流磁控溅射沉积a-Si薄膜，制备成glass／a-Si／Al样品，经退火处理制备了poly-Si薄膜。分别采用Raman光谱、XRD光谱等手段研究了衬底粗糙度以及衬底温度对铝诱导晶化（AIC）制备的poly-Si品质的影响。Raman光谱表明：所有样品在521cm。都有尖锐、对称的Raman峰出现，表明样品完全结晶；XRD结果表明：poly-Si在（111）晶向择优生长；XRD在（111）处的半高宽值（FWHM）表明：玻璃衬底的形貌和a-Si沉积的温度对po