Ti/Ni/Ti复合层TLP扩散连接Si_3N_4陶瓷与接头质量控制

来源 :航空材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chlo16105
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研究了Ti/Ni/Ti复合层TLP扩散连接Si34陶瓷。结果表明,Ni-Ti过渡液相存在的时间短,在此期间形成的界面结合强度低;必须进一步固态扩散反应才能形成高强度接头,相应的接头显微结构为:Si3N4/TiN/Ti5Si3+Ti5Si4+Ni3Si/NiTi/Ni3Ti/Ni。连接时间、连接温度、连接压力及Ti和Ni的厚度影响接头组织和强度,其最佳值为60min,1050℃、2.5MPa、20μm和400μm,所得接头室温和800℃剪切强度分别为142MPa和61MPa。
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