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本文在已对11周至38周胎儿大脑不同区域新皮质组织发生中，端脑壁的皮质板和边缘带进行了形态学研究的基础上，对11周至17周5个胎龄组的9例胎儿的端脑壁在额前区，运动区，枕区，颞区，岛区的室管膜层和室管膜下层，中间带，板下带三部分，利用光镜技术，分别进行了形态学观察及厚度的测量和比较，希望联系皮质板和边缘带的研究，从形态学方面探讨胎儿大脑新皮质发育的规律。结果表明：（1）端脑壁的各区带的发育遵循从内（深）向外（浅）的规则，各区带都有其发育较快时期；（2）11周时，在各脑区都存在较明显的前板下带，13至14周