水热法制备Si基片状ZnO微晶薄膜

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采用真空蒸镀法在Si(100)基底上制备了六角片状Zn微晶薄膜,并由N2H4·H2O-水热体系制备了Si基片状ZnO微晶薄膜。XRD、SEM及EDS测试与分析结果表明,纤锌矿结构片状Zn0微晶长度约1μm、厚度约100nm,几乎垂直于Si基面,且在基面上随机组合成连续薄膜。联系室温Si基Zn微晶薄膜氧化物形貌,以“氢氧化锌脱水”反应解释了Si基片状ZnO微晶薄膜的生长机制。光致发光谱测试分析表明,ZnO微晶薄膜有强的近带边紫外光发射和弱的缺陷发射。
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