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用电化学方法制备了一种多孔钛基氢氧化锰膜电极。钛片在热的盐酸中刻蚀20min,然后在刻蚀的钛基体上阴极电沉积一层氢氧化锰。用扫描电镜仪、X射线粉末衍射仪分别考察了氢氧化锰膜电极的形貌、晶体结构特征。用循环伏安法和充放电曲线法测试氢氧化锰膜电极的电化学性能。结果表明,腐蚀后的钛基体呈现多孔特征,孔径大小在微米级范围。沉积的氢氧化锰呈现纳米片状结构,并相互交错成花状形貌。充放电曲线法测得氢氧化锰膜电极的质量比电容达340F/g,比普通钛基氢氧化锰膜电极高出28%。循环稳定性测试表明200次循环后。多子L钛基氢