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HgCdTe MIS器件的制备及其界面电学特性的研究(下)
HgCdTe MIS器件的制备及其界面电学特性的研究(下)
来源 :红外 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bbq2004_83
【摘 要】
:
介绍了用高、低频组合电容法测量HgCdTeMIS器件钝化层界面态密度能量分布的基本原理和步骤。研究表明,自身阳极硫化+单层ZnS对HgCdTe的表面钝化已经达到光伏焦平面器件表面钝化
【作 者】
:
何波
史衍丽
徐静
【机 构】
:
昆明理工大学光电子新材料研究所,昆明物理研究所,济南大学材料学院
【出 处】
:
红外
【发表日期】
:
2007年1期
【关键词】
:
HGCDTE
MIS器件
表面钝化
界面电学特性
HgCdTe
MIS device
surface passivation
interface elec
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介绍了用高、低频组合电容法测量HgCdTeMIS器件钝化层界面态密度能量分布的基本原理和步骤。研究表明,自身阳极硫化+单层ZnS对HgCdTe的表面钝化已经达到光伏焦平面器件表面钝化的各项要求。
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