脉冲参数对脉冲电沉积钨钴合金镀层表面组织结构影响很大,从而影响镀层的硬度,目前较少有针对脉冲频率与占空比对钨钴合金镀层微观结构的影响,以及织构与镀层硬度关系方面的报道。利用脉冲电镀电源在CrNiMo3VA基材表面沉积钨钴合金镀层,利用扫描电镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、显微硬度计分析镀层形貌、结构和显微硬度,探究占空比和脉冲频率对镀层织构与硬度的影响。结果表明:随着占空比的增加,镀层织构系数TC₁₀₀由0.398增加到0.845再减小至0.598,镀层硬度由637.8 HV_{2 N}増至719.2 HV_{2 N}再减至656.8 HV_{2 N};随着脉冲频率的增加,镀层织构系数TC₁₀₀由0.612增加到0.845再减小至0.719,镀层硬度由670.2 HV_{2 N}増至719.2HV_{2 N}再减至703.7 HV_{2 N};采用脉冲电沉积方法,可制备出表面分别具有（100）晶面、（101）晶面择优的合金镀层;织构的变化显著影响镀层的硬度,随着织构系数TC₁₀₀的升高,镀层的硬度逐渐增大。