LP—MOCVD生长InGaAlP外延层中In并入效率的研究

来源 :华南理工大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:applechenli
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分析了In原子在InGaAlP外延生长表面的扩散、并入及脱附过程,给出了In并入外延层的效率表达式.依据该表达式,解释了生长速率、生长温度及生长压力等生长参数对LP-MOCVD生长InGaAlP外延层中In组分的影响.
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