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对不同温度下焙烧的ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３体系的ＸＲＤ研究表明，ＮｉＯ在γ－Ａｌ２Ｏ３表面分散阈值随温度升高而增加，在低于５５０℃时，呈单层分散状态，而在较高温度时，有一定量的ＮｉＯ进入体相，此时ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３体系为ＮｉＯ晶相，分散相和体相三相混合体。
NiO／γ—Al2O3体系分散态研究
【摘 要】
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对不同温度下焙烧的ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３体系的ＸＲＤ研究表明，ＮｉＯ在γ－Ａｌ２Ｏ３表面分散阈值随温度升高而增加，在低于５５０℃时，呈单层分散状态，而在较高温度时，有一定量的ＮｉＯ进入体相，此时ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３体系为ＮｉＯ晶相，分散相和体相三相混合体
【机 构】
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沈阳师范学院化学系
【出 处】
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沈阳师范学院学报(自然科学版)
【发表日期】
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1999年2期
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