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对实现焦斑形态控制的衍射光学器件进行了精细化设计，模拟计算结果表明，可同时满足洞口附近旁瓣光强峰值不超过主瓣平均光强的0.01%，且主瓣顶部不均匀性小于10%。选取不同的采样间隔对比说明了精细化设计相对于传统设计，能真实准确地获得焦斑形态的性能参数。最后，采用功率谱密度(PSD)方法初步分析了器件几何结构与焦斑性能，特别是旁瓣间的对应关系。