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静态随机存取存储器SRAM面积缩小、尤其是其高度方向缩小的影响因素复杂，受限于多个工艺窗口决定的版图规范。以往研究多侧重线宽小的关键层，漏区轻掺杂LDD的影响至关重要却鲜有研究。本文通过对LDD阴影效应、打穿效应的研究提出其版图优化方案，实现SRAM高度、工艺窗口、器件性能的优化平衡。
SRAM LDD的版图优化及智能实现方案
【摘 要】
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静态随机存取存储器SRAM面积缩小、尤其是其高度方向缩小的影响因素复杂，受限于多个工艺窗口决定的版图规范。以往研究多侧重线宽小的关键层，漏区轻掺杂LDD的影响至关重要却鲜
【机 构】
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中国上海华虹宏力半导体制造有限公司
【出 处】
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中国科技纵横
【发表日期】
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2015年13期
【基金项目】
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上海市青年科技启明星计划（B类）（14QB1402200）.
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