Different effects of foliar application of silica sol on arsenic translocation in rice under low and

来源 :环境科学学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ssl1987310624
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Foliar application of Si can generally reduce As translocation from roots to shoots in rice;however,it does not always work,particularly under high As stress.Here,the effects of fo-liar application of nanoscale silica sol on As accumulation in rice were investigated under low(2 μmol/L)and high(8 μmol/L)arsenite stress.The results revealed that foliar Si ap-plication significantly decreased the As concentration in shoots under low arsenite stress,but showed different effects under high arsenite stress after 7 days of incubation.The re-duction in root-to-shoot As translocation under the 2As+Si treatment was related to the down-regulation of OsLsi1 and OsLsi2 expression and up-regulation of OsABCC1 expression in roots.In the 8As+Si treatment,the expressions of OsLsi1,OsLsi2,and OsABCC1 were signif-icantly promoted,which resulted in substantially higher As accumulation in both the roots and shoots.In the roots,As predominantly accumulated in the symplasts(90.6%-98.3%),in which the majority of As was sequestered in vacuoles(79.0%-94.0%)under both levels of ar-senite stress.Compared with that of the 8As treatment,the 8As+Si treatment significantly increased the As concentration in cell walls,but showed no difference in the vacuolar As concentration,which remained constant at approximately 69.1-71.7 mg/kg during days 4-7.It appeared that the capacity of root cells to sequester As in the vacuoles had a thresh-old,and the excess As tended to accumulate in the cell walls and transfer to the shoots via apoplasts under high arsenite stress.This study provides a better understanding of the different effects of foliar Si application on As accumulation in rice from the view of arsenite-related gene expression and As subcellular distribution in roots.
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