【摘 要】
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在以5,5’-二甲基已内酰脲（DMH）为配位剂的镀液体系中研究了添加剂C4H6O2、C7H4NNa O3S和C12H25SO4Na对金电沉积工艺和电结晶过程的影响。阴极极化曲线测试中,金电沉积的最佳电
【机 构】
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中国工程物理研究院电子工程研究所,哈尔滨工业大学化工学院
【基金项目】
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中国工程物理研究院科学技术发展基金(2014B0302043)
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在以5,5’-二甲基已内酰脲（DMH）为配位剂的镀液体系中研究了添加剂C4H6O2、C7H4NNa O3S和C12H25SO4Na对金电沉积工艺和电结晶过程的影响。阴极极化曲线测试中,金电沉积的最佳电势区间是-0.60-1.2V,添加剂浓度在研究的范围内对阴极极化电势的影响较小。循环伏安曲线结果表明,反应界面上添加剂的吸附能够影响成核生长超电势,对金还原过程表现出抑制作用。电化学阻抗谱研究表明,镀液中加入添加剂后,电荷转移过程变得更加困难。SEM观察表明,添加剂改善了镀层质量,晶粒变得细致、均匀。XRD分析证实,两种镀液体系中获得的镀金层都沿着Au（111）和（220）晶面择优生长。
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