摘要：在大面积磁控溅射玻璃镀膜中，使用等离子清洗技术可以有效地清洁靶面和阳极表面，彻底解决使用平面磁控溅射阴极进行反应性溅射时的“靶中毒”和“阳极消失”两个问题。
　　关键词：等离子；玻璃镀膜；清洗技术
　　中图分类号：TB43 文献标识码：A 文章编号：1674-7712 (2012) 10-0229-01