用于铜电化学机械抛光的羟基乙叉二膦酸基电解液反应机理研究

来源 :电加工与模具 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ckxworkman

【摘要】

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在铜电化学机械抛光(ECMP)工艺中,羟基乙叉二膦酸(HEDP)可与其他水处理剂协同抑制电解并使金属表面光滑,而传统的操作电位低于4 V(vs.SCE)限制了反应过程中的材料去除率。为

【作者】

：

吴由頁康仁科郭江刘作涛金洙吉

【机构】

：

大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室

【出处】

：

电加工与模具

【发表日期】

：

2020年3期

【关键词】

：

羟基乙叉二膦酸电化学机械抛光反应机理 hydroxyethylidene diphosphonic acidelectrochemical mechanic

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(90923025),科学挑战计划(TZ2016006-0103、TZ2016006-0107-02),国家自然科学基金委员会创新研究小组科学基金资助项目(51621064)

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在铜电化学机械抛光(ECMP)工艺中,羟基乙叉二膦酸(HEDP)可与其他水处理剂协同抑制电解并使金属表面光滑,而传统的操作电位低于4 V(vs.SCE)限制了反应过程中的材料去除率。为解决此问题,在较高电位下对铜进行动电位腐蚀、静电位腐蚀和ECMP试验,研究工艺可行性并探索电解液的反应机理。结果表明:在6 V(vs.SCE)下,能最大程度地提高铜片的表面粗糙度和材料去除率。反应机理推测:从工作电极电离得到的铜离子与两个HEDP分子反应生成配位化合物[CuL2]6-后与K+结合形成配位化合物[KCuL2]5

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