【摘 要】
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在惯性约束聚变研究中,高-低Z金属涂层对提高靶丸的性能具有重要的作用。本实验采用直流磁控溅射技术和驱动微球运动的倾斜旋转托盘与敲击装置,在GDP空心微球表面溅射了不同
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,重庆交通大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金(51401194).
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在惯性约束聚变研究中,高-低Z金属涂层对提高靶丸的性能具有重要的作用。本实验采用直流磁控溅射技术和驱动微球运动的倾斜旋转托盘与敲击装置,在GDP空心微球表面溅射了不同工作气压的Al-W多层涂层,利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)研究气压变化对多层涂层质量的影响规律。结果表明:多层涂层的厚度均匀性好,达90%以上,涂层均呈致密的柱状晶生长,残余应力小,涂层质量受工作气压影响显著。涂层结构的致密度随气压增大而下降,涂层的形貌与颗粒尺寸发生相应的变化,致使多层涂层的表面粗糙度
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